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7N高純度銅ターゲット高導電性優熱伝導性高延性耐食性備金属材料半導体製造光学技術航空宇宙防衛新能源太陽光産業科学研究精密機器医療分野広応用
基本：
| 純度： | Cu = 99.99999+％ |
| 不純物総量： | ≤0.1ppm |
| 外観色： | 銅金色 |
| 製品仕様： | 客様要求応加工可能 |
| 応用分野： | 半導体製造、光学技術、航空宇宙防衛産業、新太陽光発電分野、科学研究、精密機器産業 医療機器分野 |
| 国家標準GB74の全項目検出基準をクリア | |
領域：
7N高純度銅ターゲット極低不純物含有量薄膜均一性確保性能劣損低減半導体薄膜堆積金属配線工程広採用
7N高純度銅ターゲット特性高導電性活光学薄膜分野優位性発揮反射鏡透明導電膜OLED製造適用
7N高純度銅ターゲット高放射線高温環境下不純物起因性能低下抑制優導電性熱安定性航空宇宙機器衛星等高精度電子不可欠
7N高純度銅ターゲット高純度高安定性不純物干渉排除粒子加速器電子顕微鏡高物理実験装置等精密計測機器採用
7N高純度銅ターゲット高導電性優熱伝導性高延性耐食性備金属材料半導体製造光学技術航空宇宙防衛新能源太陽光産業科学研究精密機器医療分野広応用
基本：
| 純度： | Cu = 99.99999+％ |
| 不純物総量： | ≤0.1ppm |
| 外観色： | 銅金色 |
| 製品仕様： | 客様要求応加工可能 |
| 応用分野： | 半導体製造、光学技術、航空宇宙防衛産業、新太陽光発電分野、科学研究、精密機器産業 医療機器分野 |
| 国家標準GB74の全項目検出基準をクリア | |
領域：
7N高純度銅ターゲット極低不純物含有量薄膜均一性確保性能劣損低減半導体薄膜堆積金属配線工程広採用
7N高純度銅ターゲット特性高導電性活光学薄膜分野優位性発揮反射鏡透明導電膜OLED製造適用
7N高純度銅ターゲット高放射線高温環境下不純物起因性能低下抑制優導電性熱安定性航空宇宙機器衛星等高精度電子不可欠
7N高純度銅ターゲット高純度高安定性不純物干渉排除粒子加速器電子顕微鏡高物理実験装置等精密計測機器採用
