高純度硫酸銅溶液（5g/L）

MEMS製造プロセス中、高純度硫酸塩溶液は、電気めっきプロセスの各ステップを細かく制御することにより、銅の電気めっき層の均一性、高い純度、安定性を提供します。これらの利点は、表面の調製から電気めっき堆積、治療後およびエッチングプロセスまで、すべてのステップに反映されます。これらのプロセスを最適化することにより、高純度硫酸銅溶液は、MEMSデバイスの電気性能、機械的強度、信頼性を改善するだけでなく、生産効率を改善し、生産の欠陥を減らし、最終的に製品の高品質と一貫性を保証します。

統合回路に高純度硫酸塩溶液の適用は、主に銅相互接続の電気めっきプロセスに集中しており、高品質で均一で安定した銅メッキ層を提供します。その利点には、高純度の銅層の提供、銅層の均一な堆積の確保、導電率の向上、製品の欠陥の減少、製品の長期的な安定性と信頼性の改善が含まれます。プロセスパラメーターを正確に制御することにより、正確性とパフォーマンスのために最新の統合回路の高い要件を満たし、高品質のIC製品の生産を確保できます。

半導体ウェーハ製造における高純度硫酸溶液の適用は、銅相互接続技術の開発を促進するだけでなく、チップの電気性能と安定性も改善します。半導体業界の傾向は、より高い統合とより小さなサイズを追求しているため、特にミクロンとナノメートルレベルの製造の製造要件の下で、相互接続材料としての銅の利点がますます明らかになります。および高品質の電気めっき層。

銅層の厚みが均一で密着性に優れ、表面が平滑なため、精密めっきや高品質要求を満たします。

銅イオン濃度が低い設計のため、めっき工程中の析出速度を良好に制御可能で、銅めっき層の厚み管理が容易です。

低温環境下でのめっき作業に適しており、高温影響を受けず精密なめっき工程を実現します。