高純度硫酸銅溶液（60g/L）

高純度硫酸銅溶液は、精密部品めっきにおいて特にめっき層の純度・均一性・機械的特性・電気的特性に優れ、高精度部品の要求を満たします。電流密度・溶液濃度・温度などのパラメータを制御することで、マイクロメートル乃至ナノメートルレベルの構造体に対しても精密めっきを実現。マイクロエレクトロニクスやセンサー分野などで広く活用されています。

高純度硫酸銅溶液はIC製造における銅配線形成（銅インターコネクトめっき）工程で中核的役割を果たします。高純度銅層の形成・均一な堆積・優れた導電性確保・欠陥低減・長期信頼性向上に寄与。精密なプロセス制御により、現代ICが求める微細化・高性能化要求に対応し、高品質IC製品の製造を可能にします。

高純度硫酸銅溶液は半導体業界の銅配線技術発展を促進し、チップの電気特性・信頼性向上に貢献。高集積化・微細化が進む中、銅配線材料の優位性が顕著に。マイクロ/ナノスケールの製造プロセスにおいても安定した高品質めっき層を提供可能です。

高純度硫酸銅溶液は太陽電池の背面電極・前面電極形成工程で活用。銅めっき技術がもたらす低コスト・高導電性・優れた機械的強度が発電効率と信頼性向上に寄与。めっき層の厚さ・品質を精密制御可能なため、光電変換効率の最大化と製品寿命延伸を実現します。

60g/Lの銅イオン濃度を実現し、高い析出速度を特徴とします。厚い銅メッキ層や高い生産効率が求められるメッキ工程に最適です。

均一で緻密な銅メッキ層を形成可能。析出速度が速く生産効率の向上に寄与するだけでなく、メッキ層の高品質を保証します。

ROHSおよびREACHなどの国際環境基準に準拠。無毒・無害で、人体や環境に安全な製品設計となっております。